一、電子行業(yè)用水簡(jiǎn)介
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線(xiàn)寬越窄，對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
二、應(yīng)用范圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實(shí)驗(yàn)室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗(yàn)、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領(lǐng)域。
2、化工工藝用水、化學(xué)藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶硅、半導(dǎo)體晶片切割制造、半導(dǎo)體芯片、半導(dǎo)體封裝 、引線(xiàn)柜架、集成電路、液晶顯示器、導(dǎo)電玻璃、顯像管、線(xiàn)路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。
三、工藝簡(jiǎn)介
1、系統(tǒng)模塊化設(shè)計(jì)，共分四部分：預(yù)處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、EDI系統(tǒng)、終端供水系統(tǒng)。
2、預(yù)處理系統(tǒng)主要用來(lái)去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機(jī)物，保證產(chǎn)水符合反滲透系統(tǒng)的進(jìn)水水質(zhì)要求。
3、反滲透系統(tǒng)主要用來(lái)去除原水中溶解性鹽類(lèi)物質(zhì)、細(xì)菌、熱源等，保證產(chǎn)水符合EDI系統(tǒng)進(jìn)水水質(zhì)要求。
4、EDI系統(tǒng)主要用來(lái)對(duì)反滲透產(chǎn)水進(jìn)行進(jìn)一步脫除溶解性的小分子鹽類(lèi)物質(zhì)，產(chǎn)水達(dá)到電阻率達(dá)到15MΩ.cm以上。
5、終端供水系統(tǒng)主要是用來(lái)將合格水輸送至用水點(diǎn)，輸送過(guò)程中對(duì)EDI產(chǎn)生進(jìn)行比較后的離子交換脫鹽，使得產(chǎn)水達(dá)到電阻率達(dá)到18MΩ.cm以上。
6、整個(gè)系統(tǒng)進(jìn)行集中控制。
四、技術(shù)特色
1、系統(tǒng)模塊化設(shè)計(jì)，占地面積小，操作維護(hù)方便，安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化運(yùn)行，并且手動(dòng)與自動(dòng)自由切換。
3、設(shè)備產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，運(yùn)行連續(xù)穩(wěn)定。
4、系統(tǒng)工藝先進(jìn)，無(wú)需化學(xué)藥品再生，無(wú)危害性廢液排放。
5、系統(tǒng)節(jié)水率高，系統(tǒng)回收率在75%以上。
6、關(guān)鍵部位采用在線(xiàn)儀表監(jiān)測(cè)，適時(shí)數(shù)據(jù)上傳。
五、設(shè)備參數(shù)
1、系統(tǒng)回收率：
超濾≥90%
一級(jí)反滲透≥75%
二級(jí)反滲透≥85%
EDI系統(tǒng)≥90%
2、設(shè)備產(chǎn)水符合《電子超純水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)純水指標(biāo)。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。
